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報告書

Dynamic behavior of transport in normal and reversed shear plasmas with internal barriers in JT-60U

Neudatchin, S. V.; 滝塚 知典; 白井 浩; 藤田 隆明; 諫山 明彦; 鎌田 裕; 小出 芳彦; Dnestrovskij, Y. N.*

JAERI-Research 2001-056, 32 Pages, 2001/12

JAERI-Research-2001-056.pdf:1.31MB

JT-60U中の内部輸送障壁(ITB)を持つ正及び負磁気シアプラズマ中の速い時間スケールとゆっくりした時間スケールの時間発展を調べた。弱いITBにおいて時間的に急激で空間的に広がりのある変動が、電子とイオンの熱拡散係数$$chi$$に生じる。強いITBを持つ負磁気シア(RS)プラズマ中では、$$chi$$の変動はITBの足部近傍に局在化する。さまざまなRSプラズマにおいて、安全係数がほぼ最小になるところで熱流束の変動が最大となる。$$chi$$の急変及び鋸歯的崩壊によって誘起される熱パルス伝搬を解析し、強いITB領域内では$$chi$$の値は小さく熱ピンチはないことを確かめた。また、ELMで引き起こされるH-L遷移時とその回後のL-H遷移時の$$chi$$の急激変動は、RSプラズマの弱いITB領域より内側の負シア領域にわたって非局在的に起きる。

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